Nombre del producto: Objetivo de pulverización de disprosio
Apodo del producto: objetivo de disprosio, objetivo Dy, objetivo de disprosio en blanco
Color plata
Punto de fusión: 1420 grados
Punto de ebullición: 2840 grados
Densidad: 8,55 g/cm3
Pureza: Dy/TREM Mayor o igual a 99,99% TREM Mayor o igual a 99,9%
Density: >99.5%
Tamaño medio de grano:<200μm
Rugosidad indicada:<2μm
Forma: los objetivos cuadrados, redondos y giratorios de diferentes especificaciones se pueden personalizar según los requisitos del cliente.
Características técnicas: Mejorar la tecnología de fundición al vacío de objetivos, desarrollar tecnología de procesamiento de plástico limpio y de procesamiento de precisión.
Usos del objetivo de disprosio:
El objetivo de disprosio se utiliza para infiltrar disprosio en materiales NdFeB mediante tecnología de difusión de límite de grano de pulverización catódica con magnetrón para lograr el efecto de mejorar la coercitividad. Es una importante fuente de pulverización catódica para materiales NdFeB de alto rendimiento y se utiliza ampliamente en las industrias de fabricación de materiales magnéticos NdFeB.
El recubrimiento de pulverización catódica con objetivo de disprosio puede mejorar el rendimiento de los imanes de NdFeB y reducir el uso de tierras raras preciosas, medianas y pesadas. La parte de neodimio de los imanes de NdFeB se puede reemplazar con disprosio para aumentar la fuerza coercitiva y así mejorar la resistencia al calor del imán. Se utiliza ampliamente en vehículos de nueva energía, trenes de alta velocidad, electrónica 3C, inteligencia artificial y otros campos.
Difusión en el límite de grano:
Al formar una película delgada de elementos pesados de tierras raras (disprosio, terbio) en la superficie del acero magnético, y después del tratamiento térmico al vacío, los elementos pesados de tierras raras se difunden principalmente a lo largo de la fase límite del grano de bajo punto de fusión y luego reemplazan la principal. Bordes de grano de fase. Los átomos de Nd forman una capa de alta fuerza coercitiva. Esta microestructura única puede aumentar en gran medida la fuerza coercitiva del imán basándose en una caída de magnetización residual extremadamente baja. Esta tecnología puede aumentar significativamente la coercitividad al consumir una cantidad muy pequeña de tierras raras pesadas sin provocar una disminución significativa de la remanencia.
El proceso de difusión de límites de grano se ha desarrollado mediante pulverización catódica con magnetrón, evaporación, recubrimiento, electrodeposición y otros métodos. Las materias primas pesadas de tierras raras utilizadas para la difusión en los límites de grano suelen incluir: fluoruro, hidruro, óxido, metal puro y sus aleaciones.
La pulverización catódica con magnetrón es un tipo de deposición física de vapor (PVD). La difusión de límites de grano por pulverización catódica con magnetrón se refiere a la generación de descarga luminosa a través de voltaje en condiciones de vacío, ionización de gas argón y bombardeo de iones de argón. Los objetivos de disprosio y terbio chisporrotean átomos, grupos atómicos o grupos atómicos parcialmente ionizados de disprosio y terbio, y son acelerados por campos magnéticos o campos eléctricos para depositar películas delgadas pesadas de disprosio y terbio de tierras raras en la superficie del sustrato magnético de NdFeB. De esta manera, el disprosio y el terbio se adhieren a la superficie del NdFeB. En el proceso de difusión posterior, dado que la actividad de los metales pesados de disprosio y terbio de tierras raras es mayor que la de los compuestos pesados de tierras raras, mejora la consistencia del aumento de la fuerza coercitiva del NdFeB. Tiene ventajas a la hora de reducir el impacto sobre la estructura superficial del NdFeB después de la difusión.
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