Nombre del producto: objetivo de farfulla de terbio
Apodo del producto: objetivo de terbio, objetivo de Tb, objetivo de terbio en blanco
Color plata
Punto de fusión: 1356 grados
Punto de ebullición: 3230 grados
Densidad: 8,23 g/cm3
Pureza: Tb/TREM Mayor o igual a 99,99% TREM Mayor o igual a 99,9%
Density: >99.5%
Tamaño medio de grano:<200μm
Rugosidad indicada:<2μm
Formas: objetivo cuadrado, objetivo redondo, objetivo giratorio (el tamaño se puede personalizar según los requisitos del cliente)
Características técnicas: colada al ultravacío, limpieza de objetivos y procesamiento de plástico.
Usos del objetivo de terbio:
El objetivo de terbio se utiliza principalmente para infiltrar terbio en materiales NdFeB mediante tecnología de difusión límite de grano de pulverización catódica con magnetrón para lograr el efecto de aumentar la coercitividad. Es una importante fuente de pulverización catódica para materiales NdFeB de alto rendimiento. Es ampliamente utilizado en empresas de preparación de materiales magnéticos NdFeB.
Difusión del límite de grano: al formar una película delgada de elementos pesados de tierras raras (disprosio, terbio) en la superficie del acero magnético, y después del tratamiento térmico al vacío, los elementos pesados de tierras raras se difunden principalmente a lo largo de la fase límite del grano de bajo punto de fusión, y luego reemplace los bordes del grano de la fase principal. Los átomos de Nd forman una capa de alta fuerza coercitiva. Esta microestructura única puede aumentar en gran medida la fuerza coercitiva del imán basándose en una caída de magnetización residual extremadamente baja. Esta tecnología puede aumentar significativamente la coercitividad al consumir una cantidad muy pequeña de tierras raras pesadas sin provocar una disminución significativa de la remanencia.
El proceso de difusión de límites de grano se ha desarrollado mediante pulverización catódica con magnetrón, evaporación, recubrimiento, electrodeposición y otros métodos. Las materias primas pesadas de tierras raras utilizadas para la difusión de límites de grano generalmente incluyen: fluoruro, hidruro, óxido y metal puro, aleaciones, etc.
La pulverización catódica con magnetrón es un tipo de deposición física de vapor (PVD). La difusión de límites de grano por pulverización catódica con magnetrón se refiere a la generación de descarga luminosa a través de voltaje en condiciones de vacío, ionización de gas argón y bombardeo de iones de argón. Los objetivos de disprosio y terbio chisporrotean átomos, grupos atómicos o grupos atómicos parcialmente ionizados de disprosio y terbio, y son acelerados por campos magnéticos o campos eléctricos para depositar películas delgadas pesadas de disprosio y terbio de tierras raras en la superficie del sustrato magnético de NdFeB. De esta manera, el disprosio y el terbio se adhieren a la superficie del NdFeB. En el proceso de difusión posterior, dado que la actividad de los metales pesados de disprosio y terbio de tierras raras es mayor que la de los compuestos pesados de tierras raras, mejora la consistencia del aumento de la fuerza coercitiva del NdFeB. Tiene ventajas para reducir el impacto en la estructura de la superficie. de NdFeB después de la difusión.
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